高純潔凈氣體配管參考 無(wú)錫衛(wèi)生級(jí)不銹鋼管現(xiàn)貨經(jīng)銷
所有高純度、高潔凈的氣體均需通過(guò)管路輸送到設(shè)備用點(diǎn)（POU），為了達(dá)到工藝對(duì)氣體的質(zhì)量要求，在氣體出口指標(biāo)一定的情況下，則更需重視配管系統(tǒng)的材料選用和施工質(zhì)量。除取決于制氣或凈化設(shè)備的精度外，在很大程度上受到管路系統(tǒng)諸多因素的影響，因此，管材的選取應(yīng)恪守相關(guān)行業(yè)原則，并在圖紙中注明管道材質(zhì)。
管路的材質(zhì)則依使用的需求進(jìn)行選擇，若為制程用的反應(yīng)氣體則選擇高等級(jí)的316L EP管，經(jīng)電解拋光(Electro-Polish)處理，耐腐蝕，表面粗糙度低，Rmax(maximum peak to valley height)約為0.3μm以下，其值遠(yuǎn)低于經(jīng)過(guò)光輝燒結(jié)(Bright Anneal)處理之316L BA管的0.8μm，因平整度越高越不容易形成微渦流，而將污染粒子帶出。316L BA管則常使用于和芯片接觸但不參與制程反應(yīng)的氣體，如GN2、CDA。管內(nèi)表面粗糙度是衡量管材質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)。粗糙度越低，其顆粒攜帶可能性大大降低。另一種未經(jīng)特殊處理的AP管(Annealing & Picking)，則用于不做為供氣管路的雙套外管。
目前在國(guó)內(nèi)潔凈管道可參照標(biāo)準(zhǔn)比較少，通常我們除了參照《潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》《氫氣站設(shè)計(jì)規(guī)范》《氫氧站設(shè)計(jì)規(guī)范》《壓縮空氣設(shè)計(jì)規(guī)范》等有關(guān)技術(shù)行業(yè)技術(shù)規(guī)范外，在業(yè)內(nèi)我們慣用的選材與配管一般參照國(guó)際通用的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：
在半導(dǎo)體體行業(yè)線寬越做越小，其對(duì)氣體純度、顆粒度、雜質(zhì)含量、露點(diǎn)的要求也越來(lái)越高。表1是各線寬下對(duì)超純氮?dú)獾囊?/span>
高純氮?dú)?/span>（PN2）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
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氮?dú)?/span>（N2）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管或光亮退火（BA）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或球閥。3 P5 j7 A+ L* }
高純氫氣（PH2）氫氣（H2）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。氬氣（Ar）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。' D8 \0 m& A& S- z) ^3 Q$ M
氦氣（He）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L不銹鋼管）閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。4 ]6 r+ K4 P3 k* p
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特氣系統(tǒng)：必要的還需做雙套管：外管酸洗鈍化（AP）處理，內(nèi)管電解拋光（EP），閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
壓縮空氣（CDA）：系統(tǒng)管道采用光亮退火（BA）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的球閥（要求不高的公司亦可采用銅管，視工藝要求定）2 y" y. g8 v0 C* k3 p. u9 _/ s
對(duì)于特殊氣體來(lái)講，氣體品種多，有毒有害氣體多，原來(lái)是一機(jī)臺(tái)配一氣柜，高昂的裝備組合和維修費(fèi)用大大增加了投資成本，且有的還布置在工藝間內(nèi)，存在著泄漏的安全隱患�，F(xiàn)在廣泛采用集中供氣系統(tǒng)，氣柜集中，自控系統(tǒng)不斷完善，其報(bào)警、噴淋、切換、吹掃多較為成熟，特氣間也與工藝間隔離，并對(duì)房間有防爆要求，工作的安全性大大提高。 $ E2 g$ K% k) y. {
針對(duì)腐蝕性、毒性、燃燒性的氣體，通常設(shè)計(jì)將鋼瓶置于氣瓶柜(Gas Cabinet)內(nèi)，再透過(guò)管路將氣體供應(yīng)至現(xiàn)場(chǎng)附近的閥箱(VMB, Valve Manifold Box)，而后再進(jìn)入制程機(jī)臺(tái)的使用點(diǎn)(POU, Point of Use)，于進(jìn)入機(jī)臺(tái)腔體之前，會(huì)有獨(dú)立的氣體控制盤(GB, Gas Box)與制程控制模塊聯(lián)機(jī)，以質(zhì)流控制器(MFC, Mass Flow Controller)進(jìn)行流量之控制與進(jìn)氣的混合比例控制，通常此氣體控制盤不屬于廠務(wù)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)范疇，而是歸屬制程機(jī)臺(tái)設(shè)備的一部份。一般的惰性氣體則是以開放式的氣瓶架(Gas Rack)與閥盤(VMP, Valve Manifold Panel)進(jìn)行供應(yīng)。
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